黄仁勋将访台积电3纳米工厂

据报道，英伟达首席执行官黄仁勋今日下午将访问台积电位于台南的3纳米工厂。此次访问不仅展示了两家公司之间的紧密合作关系，也预示着双方在先进制程技术上的进一步合作。明日，黄仁勋还将前往新竹参加台积电运动会，并与台积电创始人同台亮相，共同庆祝双方在半导体领域的成就。

为了满足英伟达追加采用3纳米制程生产AI芯片的需求，台积电正在积极扩大其南科18B厂的3纳米产能。据估计，这次扩产计划将使该厂的3纳米产能增加45%至50%，显著提升了台积电为全球领先科技企业提供尖端芯片解决方案的能力。此举不仅是对当前市场需求增长的响应，也是对未来技术发展趋势的一种投资。

预计通过此次合作，英伟达能够加速推出今年发布的Blackwell Ultra AI芯片以及明年即将推出的Vera Rubin系列。这些新一代产品将在性能、能效等方面实现突破性进展，为人工智能领域带来更强大的计算力支持。同时，这也标志着台积电和英伟达在全球半导体产业中的领先地位得到了进一步巩固。